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真空脫羥爐

臥式真空脫羥爐

臥式真空脫羥爐

產品名稱 臥式真空脫羥爐

設備型號 :

HZTQ-220,HZTQ-300,HZTQ-380,HZTQ-600

最高溫度 :

1300℃

極限真空度 :

1×10-2

爐溫均勻性 :

≤±5℃

壓升率:

≤0.3Pa/h

工件材質:

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產品詳情

產品規(gui)格:

用途:

主要(yao)用于特殊(shu)電光源行業的石(shi)英(ying)脫羥工藝。

優勢(shi)與(yu)特點:

爐蓋氣動鎖緊,保證正負壓雙向密封
能有效減少桿類零件的熱處理變形
選用高純度石墨軟氈、石墨板作為保溫材料,加熱元件采用國產或進口石墨
為了防止返油,提高爐內潔凈度及高真空,采用分子泵對爐內進行抽真空。
為了提高生產效率,縮短工藝周期,配有外循環風冷系統
觸摸屏界面友好而實用,可顯示和監控設備運行狀態,可調用、編輯和存儲工藝程序庫,并具有工藝報表、實時曲線、歷史曲線和故障報警報表的顯示、查詢和打印功能
全自動控制,可實現“在線”生產管理
具有安全互鎖、故障診斷和異常報警功能
可配(pei)置遠程診斷系(xi)統,實現售(shou)后服(fu)務的“零”響應時(shi)間

工作原理:

通過抽真空(kong),使(shi)爐內環(huan)境處于真空(kong)狀態(tai),溫度達到1050℃,從而使(shi)石(shi)英管的的羥(qian)基得到充分釋(shi)放,羥(qian)基值(zhi)降低到百萬分之一。這(zhe)樣做可以提高(gao)石(shi)英管的抗氧化(hua)性能,更好地提高(gao)產品(pin)的使(shi)用(yong)性能。

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